La pompa in ceramica di allumina rivestita in metallo è un'apparecchiatura composita per il trasporto di fluidi che combina un guscio metallico con un rivestimento in ceramica di allumina, progettata specificamente per la movimentazione di fluidi altamente corrosivi e altamente abrasivi. Rispetto alle tradizionali pompe interamente in metallo o alle normali pompe in ceramica, questo prodotto migliora la resistenza meccanica attraverso una struttura a guscio esterno in metallo, sfruttando al tempo stesso l'elevata durezza e la resistenza alla corrosione chimica delle ceramiche di allumina per prolungare significativamente la durata. Il suo vantaggio principale è che risolve contemporaneamente i punti critici del settore, ovvero le pompe metalliche soggette a corrosione e le pompe ceramiche soggette a crepe fragili. La pompa in ceramica di allumina rivestita in metallo adotta una struttura composita a doppio strato: lo strato esterno è un guscio metallico resistente alla pressione (come acciaio inossidabile o lega di titanio) e lo strato interno è un rivestimento in ceramica di allumina di elevata purezza (contenuto di Al₂O₃ ≥ 95%). Il rivestimento in ceramica di allumina è strettamente combinato con il guscio metallico attraverso una lavorazione di precisione per formare uno strato protettivo senza soluzione di continuità in grado di resistere ad ambienti fortemente acidi e alcalini con un valore di pH compreso tra 0 e 14 e resistere all'erosione da parte di particelle solide con una dimensione delle particelle ≤1 mm. L'apparecchiatura ha un intervallo di temperatura operativa compreso tra -20 ℃ e 250 ℃ e una pressione di esercizio massima di 2,5 MPa. È adatto per il trasporto di mezzi come acido solforico, acido cloridrico, soluzione di idrossido di sodio e liquame. Il suo design modulare supporta la rapida sostituzione dei rivestimenti ceramici e riduce i costi di manutenzione. Il prodotto è ampiamente utilizzato in processi quali l'idrometallurgia, la desolforazione dei gas di scarico, il trattamento galvanico delle acque reflue e la pulizia dei wafer semiconduttori, soddisfacendo le esigenze di funzionamento continuo e stabile in condizioni di elevata corrosione e usura elevata.