Il disco ceramico di allumina perforata è un componente funzionale ad alte prestazioni progettato per ambienti industriali difficili. Rispetto ai normali dischi perforati in metallo o polimero, questo prodotto ha un'estrema resistenza all'usura, stabilità alle temperature ultra elevate (resiste a 1600°C) ed eccellente inerzia chimica grazie alla sua elevata purezza di materiale ceramico di allumina superiore al 99% e può mantenere l'integrità strutturale per lungo tempo in acidi forti, basi forti e gas corrosivi. La sua tecnologia di perforazione laser di precisione può raggiungere una precisione di apertura a livello di micron (± 0,05 mm) e una disposizione personalizzata dei fori per garantire una distribuzione efficiente e uniforme di fluidi, gas o mezzi particolati. È particolarmente adatto per campi di fascia alta come dispositivi di incisione di wafer semiconduttori, sistemi di filtrazione di gas ad alta temperatura e substrati di supporto per elettrodi di celle a combustibile.
Scenari applicativi tipici:
Trattamento del gas ad alta temperatura: filtrazione del metallo fuso, deviazione del forno per trattamento termico
Chimico farmaceutico di precisione: filtri microporosi, trasportatori di catalizzatori
Produzione di semiconduttori: supporti per wafer con incisione al plasma, dispositivi PVD/CVD
Nuove apparecchiature energetiche: piastre bipolari per celle a combustibile a ossido solido, diaframmi dell'elettrolizzatore